Intel Fertigungsprozesse - 10nm, 7nm, etc.

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blood schrieb am 22.10.2018 um 16:00


holy shit :eek:




*UPDATE* (thx, smut!)

Tweet-URL: https://twitter.com/intelnews/status/1054397715071651841?s=21


Viper780 schrieb am 22.10.2018 um 16:21

Wurde eh schon öfter rumored.
Es wird halt jetzt immer unwirtschaftlicher noch kleiner zu fertigen.
Hat auch einen Grund warum GlobalFoundries keinen 7/10nm Prozess hat und mit den 12nm vom Zen+ nicht mehr weiter machen und Zen2 von TSMC in 7nm gefertigt wird.

Bin gespannt ob sie den einfach überspringen und 7/8nm bringen oder weiterhin den 14nm+++ weiter optimieren


davebastard schrieb am 22.10.2018 um 16:58

was bedeuten die "+" ? oder ist das nur marketingblabla um das selbe anders zu benamsen ? :p


blood schrieb am 22.10.2018 um 17:10

https://en.wikipedia.org/wiki/Tick%E2%80%93tock_model

intel sitzt seit 2014 auf ihrem 14nm prozess fest, den sie, jahr für jahr, immer weiter verbessert haben. der 9900k stellt die 4te optimisierung dar, ist also 14nm++++.


Dreamforcer schrieb am 22.10.2018 um 17:18

warum ist es in 7nm leichter zu fabrizieren als 1in 0nm? ich blick da nicht durch.


davebastard schrieb am 22.10.2018 um 17:19

Zitat aus einem Post von blood
https://en.wikipedia.org/wiki/Tick%E2%80%93tock_model

intel sitzt seit 2014 auf ihrem 14nm prozess fest, den sie, jahr für jahr, immer weiter verbessert haben. der 9900k stellt die 4te optimisierung dar, ist also 14nm++++.



also marketing blabla :D


blood schrieb am 22.10.2018 um 17:20

Zitat aus einem Post von Dreamforcer
warum ist es in 7nm leichter zu fabrizieren als 1in 0nm? ich blick da nicht durch.

wenn du etwas zeit hast, gamersnexus hat ein dazu ein tolles video:


Blaues U-boot schrieb am 22.10.2018 um 18:08

afaik gibt es keine universelle methode um die strukturbreite zu messen bzw. zu definieren.
intels 10nm soll ca. äquivalent zu 7nm in anderen fabs sein.

falls intel 10nm wirklich kübelt, werden sie dann in zukunft auch bei tsmc fertigen? 14nm+++++ kann vielleicht mit first gen 7nm mithalten, aber danach muss der unterschied doch schon drastisch sein.


xtrm schrieb am 22.10.2018 um 18:27

Wenn Intel das erst JETZT macht, sind sie so richtig am Arsch. Das hätte, wenn auch inoffiziell, mindestens schon vor einem Jahr passieren müssen.


XelloX schrieb am 22.10.2018 um 18:33

Also Intel am Arsch? :D

Nvidia war vor Jahren genauso "am Arsch" - ständig hinten nach mit der Fertigung, die großen GPUs haben trotzdem jedesmal die Leistungskrone geholt = das ist wichtig bei den Fanbois

@gamersnexus: wtf, man sieht nicht nur ihn labern? :D


Smut schrieb am 22.10.2018 um 19:06

Tweet-URL: https://twitter.com/intelnews/status/1054397715071651841?s=21


Hubman schrieb am 22.10.2018 um 19:35

Herrlich, wie schön "consistent with the timeline", das geht ja schon Jahre so dahin;-)


Römi schrieb am 22.10.2018 um 19:38

Afaik gibt es unterschiedliche Lithographie methoden, und Intel hat auf die falsche gesetzt (nicht EUV - das verwendet TSMC) was wohl mit der wellenlänge vom Licht nicht mehr hinhaut bei den kleinen Größen.


xtrm schrieb am 22.10.2018 um 19:54

Zitat aus einem Post von XelloX
Also Intel am Arsch? :D

Nvidia war vor Jahren genauso "am Arsch" - ständig hinten nach mit der Fertigung, die großen GPUs haben trotzdem jedesmal die Leistungskrone geholt = das ist wichtig bei den Fanbois
Wird Intel aber nicht mehr, wenn das so weitergeht. Der 14er ist ausgereizt und der 9900er ist schon so hart an der Grenze, da wird nichts mehr danach kommen. Und AMD kommt mit ihren neuen 7nm Prozessoren daher. Aber anscheinend pfeifen sie ja doch nicht drauf =).


Garbage schrieb am 07.12.2018 um 13:11

Erscheint mir nicht abwegig, dass 7nm dank EUV und trotz der 10nm Probleme auf absehbare Zeit machbar ist.
Ein großer Teil der Probleme von 10nm kommt ja auch daher, dass Intel "zu viel" für die verfügbare Technik wollte.
Dennoch beeindruckend was mit den 193nm Systemen noch immer möglich ist, schließlich sollte EUV schon viel länger im Einsatz sein, hat sich aber immer weiter verzögert.

Zitat aus einem Post von Römi
Afaik gibt es unterschiedliche Lithographie methoden, und Intel hat auf die falsche gesetzt (nicht EUV - das verwendet TSMC) was wohl mit der wellenlänge vom Licht nicht mehr hinhaut bei den kleinen Größen.
Intel hat nicht auf die falsche Technik gesetzt. Als sie 10nm konzipiert und entwickelt haben war EUV einfach nicht wirtschaftlich einsetzbar und damit nicht verfügbar. Wie allerdings oben erwähnt, sie wollten offenbar "zu viel" für das was verfügbar war/ist.
Selbst jetzt ist es noch nicht so, dass EUV kmoplett verwendet wird, weil Kosten und Kapzität ein Thema sind.
Auch TSMC verwendet für ihren 7nm Node nur teilweise EUV:
https://www.anandtech.com/show/1344...-5nm-risk-in-q2




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