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Intel: Mit EUV-Lithografie zu 30 nm

JC 02.08.2004 - 11:14 2267 13
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JC

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Disruptor
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Intel hat die weltweit erste EUV-Lithographie-Anlage in Betrieb genommen und vollzieht so den Schritt von der Forschung zur Entwicklung. Dank des Micro Exposure Tools (MET) will Intel ab 2009 die Produktion von Chips mit Strukturgrößen von 30 Nanometer anlaufen lassen. Mittels der EUV-Lithographie (Extreme Ultra Violet) wird erstmals seit 1997 die Wellenlänge mit 13,5 nm wieder kleiner als die Chipstruktur, doch gleichzeitig gilt es auch große Hürden zu überwinden. Die dabei entstehenden Herausforderungen werden vor allem von heise näher skizziert, während man sich bei Golem etwas kürzer fasst.

Skatan

peace among worlds!
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klingt kompliziert, aufwendig, und vor allem teuer!

T3XT4

Beißer
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Bin nur neugierig wie sie das erforderliche 13,5nm Licht erzeugen.

Hornet331

See you Space Cowboy
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Zitat von T3XT4
Bin nur neugierig wie sie das erforderliche 13,5nm Licht erzeugen.

mit einem laser, was sonst. :D

Smoldi

rape diem
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Zitat von Hornet331
mit einem laser, was sonst. :D

eben nicht.
lesen, dann posten.

mäxchen

Big d00d
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Zitat von Smoldi
eben nicht.
lesen, dann posten.

nicht ganz zur hälfte hat er recht.
plasmalichtquellen oder durch laser

mfg

Smoldi

rape diem
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Zitat
Gegenwärtig favorisieren die Forscher Plasmalichtquellen, gezündet durch Entladung oder durch Laser.

:o

mäxchen

Big d00d
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Zitat von Smoldi
:o

dann hät ich wohl besser mal den ganzen satz gelesen :D

gruß

RoNin

Mhhh....
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Intressant , jetzt würd mich nur noch interessieren wieso die damit wieder so lange warten... (2009)

Smoldi

rape diem
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unpackbar.
warum gebt ihr replies, obwohl ihr die news nicht gelesen habt?

RoNin

Mhhh....
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Zitat von Smoldi
unpackbar.
warum gebt ihr replies, obwohl ihr die news nicht gelesen habt?

hab se gut gelesen, der Link auf die Intel HP geht allerdings net

Zitat
Intel, bislang bei EUV äußerst auskunftsfreudig, hält sich beim EUV-Licht bedeckt und verweist auf Ankündigungen im Oktober

...anscheinend habens ja schon was im Kopf wie das funktionieren könnt.
Wenn se wollten könntens mit der Technologie sicher schon 2006 rausrücken, bzw. sie einsetzen...
Bearbeitet von RoNin am 03.08.2004, 22:51

Smoldi

rape diem
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nein.
da fehlt noch viel forschung und viel geld.
im moment ist diese anlage sozusagen im "beta" stadium.

SYSMATRIX

Legend
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glaub kaum daß man bei intel sagen kann es fehlt an geld und mit beta stadium kann mans erst recht nicht vergleichen, die technologie dafür gibt es im moment nicht.

außerdem gibt es bei < 40nm schon derbst schwer zu lösende andere probleme die nicht direkt in verbindung mit dem prozess stehen.

Smoldi

rape diem
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ftp://download.intel.com/research/s...oils_080204.pdf
seite 7.

das meinte ich damit. vielleicht habe ich mich falsch ausgedrückt.
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