Intel: Mit EUV-Lithografie zu 30 nm

Intel hat die weltweit erste EUV-Lithographie-Anlage in Betrieb genommen und vollzieht so den Schritt von der Forschung zur Entwicklung. Dank des Micro Exposure Tools (MET) will Intel ab 2009 die Produktion von Chips mit Strukturgrößen von 30 Nanometer anlaufen lassen. Mittels der EUV-Lithographie (Extreme Ultra Violet) wird erstmals seit 1997 die Wellenlänge mit 13,5 nm wieder kleiner als die Chipstruktur, doch gleichzeitig gilt es auch große Hürden zu überwinden. Die dabei entstehenden Herausforderungen werden vor allem von heise näher skizziert, während man sich bei Golem etwas kürzer fasst.

Bin nur neugierig wie sie das erforderliche 13,5nm Licht erzeugen.

Zitat von Hornet331

mit einem laser, was sonst.

eben nicht.
lesen, dann posten.

Zitat

Gegenwärtig favorisieren die Forscher Plasmalichtquellen, gezündet durch Entladung oder durch Laser.

Intressant , jetzt würd mich nur noch interessieren wieso die damit wieder so lange warten... (2009)

Zitat von Smoldi

unpackbar.
warum gebt ihr replies, obwohl ihr die news nicht gelesen habt?

hab se gut gelesen, der Link auf die Intel HP geht allerdings net

Zitat

Intel, bislang bei EUV äußerst auskunftsfreudig, hält sich beim EUV-Licht bedeckt und verweist auf Ankündigungen im Oktober

...anscheinend habens ja schon was im Kopf wie das funktionieren könnt.
Wenn se wollten könntens mit der Technologie sicher schon 2006 rausrücken, bzw. sie einsetzen...

glaub kaum daß man bei intel sagen kann es fehlt an geld und mit beta stadium kann mans erst recht nicht vergleichen, die technologie dafür gibt es im moment nicht.

außerdem gibt es bei < 40nm schon derbst schwer zu lösende andere probleme die nicht direkt in verbindung mit dem prozess stehen.