Intel shows working 32nm CPUs

Zitat

Below is a summary of the product roadmap news at the briefing in San Francisco:

First-ever demonstration of a working 32nm-based microprocessor:

Intel is demonstrating the first 32nm working microprocessor in both mobile and desktop systems.

• For client, Westmere brings Nehalem through Intel's mainstream processor product line
• Increased performance, smaller processor core size
• New multi-chip package with graphics integrated in the processor
• Repartitioned system architecture, simplified motherboards
• Volume ramp; expect 32nm in server market in 2010

Westmere key features

• Intel® Turbo Boost technology
• Intel® Hyper-Threading technology (2 Cores, 4 threads)
• Integrated graphics, discrete/switchable graphics support
• 4MB cache, Integrated Memory Controller (IMC) – 2ch DDR3
• AES Instructions

The 32nm process with second-generation high-k + metal gate transistor era begins

Intel's strength as an integrated device manufacturer allows the company to continue to deliver new generations of advanced process technology on a 2-year cadence. Intel has developed a 32nm logic technology with industry-leading features:

• Second-generation high-k + metal gate transistors
• 32nm marks the first time Intel uses immersion lithography on critical ayers
• 9 copper + low-k interconnect layers
• About 70 percent dimension scaling from 45nm generation
• Pb- and halogen-free packages

http://www.engadget.com/2009/02/10/...2nm-processors/

Zitat von GrandAdmiralThrawn

Was ich ja an der Geschichte am interessantesten finde, sind dieses Mal nicht die Technik an sich, oder die geil halbarroganten Meldungen a la "einige 45nm Kerne lassen wir eventuell gleich fallen, so gut wie wir mit 32nm schon fahren..." , sondern eher die Tatsache, daß alle vier 32nm Fabriken auf US-Boden errichtet werden bzw. schon errichtet sind, und nicht in Billiglohnländern, wie sonst immer! Gefällt mir.

vermutlich ist die ganze geschichte sehr aufwändig und komplex, als das man sich trauen würde es in billiglohnländer zu verlagern.

Bei ein paar Millarden Investitionsvolumen und fast keinen Arebitern in CPU-Fabs ist der Vorteil von Billiglohnländern vernachlässigbar.

Nachteil ist halt auch, das die Fabs von Intel fasst keine Wertschöpfung für normale Arbeiter bedeuten. Unter FH-Niveau bist schon fast hoffnungslos verloren und das schließt schon einige Beschäftigte aus.

Diese Fab in andere Länder zu verfrachten bringt nur was bei oft wechselnden Prozessschritten, bei den Stadardverfahren gibt es nicht viele Fabs in Südostasien.

Mit 32nm steigt intel auf Immersion um, mit 22nm war EUV geplant aber da hat sich ja noch nicht so viel getan.

100nm kommt sicher nicht, solange nicht ein Forscher einen neuen Nobelpreis für Materialentwicklung absahnt.
Der Aufpreis 100nm zu fokussieren, ist so dermassen hoch, das sie gleich mit Elektronen, Neutronen oder sonst etwas anfangen.

Im Moment steigt einfach keiner um, weil 157nm noch reichen und der Aufwand minimal ist es zum Laufen zu bringen auf kleinen Strukturen.

Mit Elektronenlithografie hat man ja sogar lange Erfahrung, auch wenn es für die Maskenherstellung verwendet wird.
Problem ist bei Elektronen halt einfach die Geschwindigkeit.

Aus österreichischer Sicht, wäre Ionenimplanation zu bevorzugen, aber da wird so und so jemand ein bischen Glück brauchen.

100nm bringen dir auch nicht wirklich einen Vorteil, weil du musst die Beugungsmuster genau so berechnen und direktes belichten geht genau so wenig.
Wer gewinnt ist im Moment nicht abzusehen, aber das es mit UV weitergeht wage ich stark zu bezweifeln.
Entweder sie schaffen die 157nm bis zum Durchbruchlimit von Silizium zu behalten oder es kommt etwas das nichts mit UV zu tun hat.

Mikroelektronik und Infineon
UV bleibt sicher noch länger, aber mittlerweile bin ich mir nicht ob es den Unternehmern nicht gelingt mit 157nm bei 8nm zu kommen und dann ist es egal, was für tolle Lithografitechniken es noch gibt.

Alle Lithografieverfahren, die mit Elektronen arbeiten und es gibt einge, schreiben im Prinzp mit unterschiedlich vielen Strahlen, aber ein System es mit Masken zu belichten und dann direkt damit zu arbeiten ist nicht mal entwicklungsreif.
Die Ionenbelichtung ist im Moment ein guter Kompromis aus Geschwindigkeit und Auflösung, aber auch noch viel zu teuer.

Imprint funktioniert bei sehr grossen Strukturen gut und wird dort auch industriell angewandt, aber die Strukturtreue ist wirklich schlecht und für kleine Halbleiter wirklich zu schlecht.

UV mit 157nm bleibt einfach so lange, wie die Beugungsmuster noch vernünftig zu berechnen und zu bearbeiten gehen.
Im Moment sieht es auch wirklich nicht so aus, das wirklich eine Ende von 157nm in Sicht ist und damit sind neue Lithografieverfahren nur etwas für die Zukunft und kein Unternehmen will sie.

Ionenbelichtung ist der Firmenname: Ion Microfabrication Systems
Ist im zweiten Bezirk in Wien und eigentlich weltweit führend bei Ionenbelichtung und das Ding funktioniert schon.
Aber das es sich durchsetzt ist eher vom Durchhaltevermögen und dem richtigen Zeitpunkt abhängig.

Bei Imprint ist halt das ganz grosse Problem, das die Dinger schon viel zu klein sein müssen um etwas zu schaffen. Bei 32nm hast noch 80Atome (Silizium) und wenn dann von der Imprint-Vorlage 5Atome abrechen, an der Ecke, kannst es gleich wieder wegschmeissen. Vor allem hast dann sofort mal Selbstordnung der Atome und dann bekommst gar keine richtigen Ecken mehr zusammen.
Die Masken halten im Moment auch nicht allzulange, aber immer noch lang genug um es wirtschaftlich durchzuführen.

Und bei den ganz kleinen Prozessen also 0,4-10nm setzt man so und so nicht mehr wirklich auf eine Belichtung, sondern man belichtet viel grösser und trägt nur 1-5Atomlagen auf und setzt dann auf die Selbstordnung.
Anders bekommst ja Nanotubes und alles in die Richtung gar nicht zusammen.

Es ist einfach die ganze Halbleitersache an einer Grenze angelangt und deswegen will keiner 50-100Millionen mehr pro Lithografieeinheit ausgeben, wenn das Ding nicht lange hält und es deutlich günstiger, aber halt mit ein bischen Rechenaufwand auch geht.